2eqe

Solution structure of the fourth A20-type zinc finger domain from human tumor necrosis factor, alpha-induced protein3

Method: SOLUTION NMR Dmax: 38.4 Å Quality: REASONABLE

SAXS 散射曲线 SAXS Profile

SAXS profile for 2eqe

P(r) 距离分布 P(r) Distribution

P(r) distribution for 2eqe
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1. 结构基本信息 1. Structure Basics

条目编号 entry_id2eqe
沉积日期 deposition_date2007-03-30
结构标题 titleSolution structure of the fourth A20-type zinc finger domain from human tumor necrosis factor, alpha-induced protein3
关键词 keywords;zf-A20 domain, Tumor necrosis factor, alpha-induced protein 3, Putative DNA-binding protein A20, Zinc finger protein A20, Structural Genomics, NPPSFA, National Project on Protein Structural and Functional Analyses, RIKEN Structural Genomics/Proteomics Initiative, RSGI, HYDROLASE ;; HYDROLASE
实验方法 methodSOLUTION NMR

2. SAXS 参数 (CRYSOL 理论计算) 2. SAXS Parameters (CRYSOL)

回转半径 Rg (Guinier) rg_guinier14.50
回转半径 Rg (电子) rg_electron13.91
零角强度 I(0) i0175060000.00
分子量 molecular_weight97874.0 kDa
排除体积 excluded_volume117440 ų
包络体积 envelope_volume42461 ų
水化壳体积 shell_volume18016 ų
包络直径 envelope_diameter74.8
壳层 Rg shell_rg26.19
包络 Rg envelope_rg21.00
形状 Rg shape_rg13.96
总 Rg total_rg14.38
总原子数 total_atoms12940
残基数 n_residues960
球谐函数阶数 n_harmonics20
q 范围 q_range— – 0.5000 −1
数据点数 n_points101
壳层类型 shell_typedirectional
溶剂电子密度 solvent_density0.3340 e/ų
壳层衬度 contrast_shell0.0300 e/ų
CRYSOL 版本 crysol_version4.1.3

3. P(r) 距离分布 (GNOM 反演) 3. P(r) Analysis (GNOM)

最大尺寸 Dmax dmax38.4
Rg (实空间) rg_real13.50
Rg 误差 (实空间) rg_real_error0.07
I(0) (实空间) i0_real1.6660e+08
I(0) 误差 (实空间) i0_real_error1.4160e+06
Rg (倒空间) rg_reciprocal14.77
I(0) (倒空间) i0_reciprocal175100000.0000
解质量估计 total_estimate0.6595
解质量评级 solution_quality REASONABLE a REASONABLE solution
P(r) 峰数 n_peaks1
主峰位置 r_peak_primary11.2
偏度 Skewness skewness0.318
峰度 Kurtosis kurtosis-0.776
角度范围 angular_range— – 0.5000 −1
当前正则化参数 α current_alpha5.1910
最高正则化参数 α highest_alpha40290.0000
实空间数据点数 n_real_points80
GNOM 版本 gnom_version4.1.3
质量判据 quality_criteria AN1: 0.007; Oscil: 0.988; Stabil: 0.973; Sysdev: 0.000; Positv: 1.000; Valcen: 0.690; Smooth: 0.000

4. 晶体学与实验 4. Crystallography & Experiment

5. 实体与聚合体信息 (2)

7. 引用文献 (1)

8. 文件与曲线 (10)